Name: Plazminės ėsdinimo sistemos
Brand: Aurion Anlagentechnik GmbH
SKU: 18137

Aurion Anlagentechnik GmbH

DIN EN ISO 9001:2015

Aurion Anlagentechnik GmbH

DIN EN ISO 9001:2015

Grįžti į sąrašą

Plazminės ėsdinimo sistemos Aurion Anlagentechnik GmbH

Jautājums par produktu

RIE procesas (reaktyvusis joninis ėsdinimas) yra sausas ėsdinimo procesas, naudojamas elektronikos ir mikroelektronikos gamyboje. Taikomi, pavyzdžiui, greitam ir itin dideliam paviršiaus valymui, paviršiaus aktyvinimui, fotorezistoriaus nuėmimui ir puslaidininkių ėsdinimui

Šiam procesui paprastai naudojamas plokščias plokščių reaktorius (žr. 1 pav.). Sukūrus 10-2-10-1 mbar slėgio dujų atmosferą, dujų išlydis (plazma) uždegamas, įjungus radijo dažnių įtampą. Dėl skirtingo lengvųjų elektronų ir sunkiųjų jonų judrumo elektriniame lauke mažesniajame elektrode (substrato nešiklyje) susidaro neigiamas nuolatinės srovės potencialas. Šis savaiminio šališkumo potencialas paprastai būna nuo 10 iki kelių šimtų voltų.

Jautājums par produktu